兴化手机壳曝光显影设计服务周到 利成感光刘邦论得天下之道

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。

显影的主要过程如下：对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。

坚膜（ HB Hardbake)

坚膜也称为硬烘，是对显影后的光刻胶加热烘干，促使光刻胶与硅片粘着牢固，并且没有发生形变。坚膜阶段的温度一般控制在100-120℃之间，若加热温度过高会使得光刻胶软化，如图4所示，并导致后期去胶困难。

一般使用热板或烘箱来控制温度变化。

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作为涂敷稳定调色剂层的显影系统，使用被布置为距显影辊按特定间隔分离的可旋转调节套筒（显影剂调节构件）的 配置。因此，载体为调色剂稳定地提供电荷，以使得可以通过调色剂层来涂敷显影辊，而没 有输出图像浓度的降低或调色剂的分散。

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曝光显影

1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。

2、曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。

3、显影：通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。